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反渗透膜用于芯片清洗用水的处理工艺

作者:GE膜     来源:GE膜公司     发布日期:2021-02-18 09:09:14


  近段时间,我国正在大力扶持国产芯片行业的发展,据相关报道,业内人士透露我国正在计划大力发展第三代芯片产业,从2020年到2025年的这五年间,举全国之力,在教育、科研、开发、融资等方面,大力支持发展第三代芯片产业,以打造完整供应链。

  对于芯片行业,又有一利好消息传来,我国官方于8月4日印发的《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》强调,将对部分集成电路制造商可免长达10年的税费。这也意味着我国芯片行业正在迅速腾飞。

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  您知道吗?一张硅片要生产成为一个完整的芯片,需要在一两个月内的时间通过400-500个工序,其中清洗工程占据了其中的30%左右,因此芯片清洗对于芯片生产来说具有重要的意义,芯片清洗用水往往通过超纯水设备进行生产。

  反渗透膜是超纯水设备的核心元件,具有高脱盐率,高抗污染,对硼,硅,锗等元素的高去除率,TOC溶出率更低,从而减小后续系统处理压力,提高后续系统的使用周期和使用效果。膜元件的化学清洗周期长,出水水质稳定,特别适用于电子级超纯水EDI系统前处理,可以有效地控制电子级超纯水系统的TOC含量。

  反渗透膜的过滤工艺就是反渗透技术,反渗透就是在浓溶液侧施加大于溶液渗透压的压力,迫使水分子逆向(与自然渗透方向相反)通过半透膜进入稀溶液的过程,由于在反渗透过程中,浓溶液侧的水分子通过半透膜流向稀溶液,而绝大部分溶质(溶解性固体)却无法透过膜,被截留下来。故浓溶液被进一步浓缩或者说脱水,稀溶液被稀释纯化或者说脱盐。出水水质电阻率大于18 MΩ*cm,或接近18.3 MΩ*cm极限值(25℃)。

  GE膜公司致力于为用户提供水处理及流体分离在内的膜集成技术整体解决方案,拥有成熟完善的膜生产工艺,汇聚相关领域研发团队,立足于多类膜产品的研发与生产,满足客户需求。

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