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GE_EDI模块MK-3物理清洗方案

作者:GE膜     来源:GE膜公司     发布日期:2016-07-12 14:55:41


   GE_EDI模块MK-3在运行一段时间后,随着工作时间的累积,就需要对GE_EDI模块MK-3装置进行清洗及消毒,这样才能确保水质纯度及设备的长久使用。

 

GE膜8.jpg

 

GE_EDI模块

 

  GE_EDI模块MK-3物理清洗特点

 

  一般美国GE_EDI模块装置的清洗分为物理清洗、化学清洗和生物清洗三种方式。

  GE_EDI模块MK-3装置物理清洗是利用高流速的水或空气和水的混合流体冲洗膜表面,这种方法具有不引入新污染物,清洗步骤简单等特点,但此法对污染初期的膜有效,清洗效果不能持久。

 

GE膜1.jpg

 

GE_EDI模块

 

  GE_EDI模块MK-3装置清洗条件

 

  GE_EDI模块MK-3装置什么时候需要清洗呢?有以下情形之一需清洗GE_EDI模块MK-3装置。

  (1)温度和流量不变,产水压降增加40%。

  (2)温度和流量不变,浓水压降增加40%。

  (3)温度、流量、电流、和进水相当电导率不变,产水质量降低。

  (4)温度和流量不变,膜堆的电阻增加25%。

 

GE膜4.jpg

 

GE_EDI模块

 

  GE_EDI模块MK-3装置物理清洗方法

 

  GE_EDI模块MK-3装置常见的物理清洗方法通常有低压高流速清洗、反向清洗及这两者的联用。

  低压高流速清洗即在较低的操作压力下尽可能地加大美国GE_EDI模块MK-3装置膜面流速流速,使得溶质分子在膜面停留的概率降低,另一方面减料液与膜面之间的浓差极化。

  反向清洗即通过在膜的透过液一侧施加压力,使透过液反向透过膜。此法一方面可以冲掉堵塞在膜孔内的污染物,另一方面对料液侧膜表面的附着层也有着一定的冲洗作用。

  所谓膜的负压清洗是在GE_EDI模块MK-3装置膜的功能面造成负压,即低于大气压的压力下使膜面和膜内部的污染物脱落。

  GE_EDI模块MK-3装置的一般清洗特点是,在清洗时,使膜组件接在泵的吸程上,造成膜的功能面压力低于大气压,而膜的另一面为大气压,从而使透过液逆流透过膜来清洗膜面和膜孔内的污染物,这与反向清洗既有相同之处又有不同之处。

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