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引起ge膜系统污染原因与清洗过程注意事项

作者:GE膜     来源:GE膜公司     发布日期:2013-11-25 14:25:15


   当ge膜在正常工作过程中,由于进水条件不同,因此膜会被各种物质所污染,例如,金属氧化物,沉淀物,细菌,病毒等,当这些物质积累覆盖在膜元件上就会导致,膜功能下降,所以需要定期对膜元件进行清洗。

  下列因素有可能引起膜系统污垢:

  预处理系统不完善

  预处理运行不正常

  系统选材不合适(泵和管线等)

  预处理投药系统失灵

  系统停机后冲洗不及时或不充分

  操作控制不当

  膜面长时间累积沉淀物(钡和硅垢等)

  进水组份或其它条件改变

  进水受生物污染

  标准化产水量降低10%以上

  进水和浓水之间的标准化压差上升了15%

  标准化透盐率增加5%以上

  清洗过程注意事项

  当准备清洗液时,应确保在进入元件循环之前,所有的清洗化学品得到很好的溶解和混合。在清洗化学药品与膜元件循环之后,应采用高品质的不含余氯等氧化剂的水对膜元件进行冲洗(最低温度>20ºC),推荐用膜系统的产水,如果对管道没有腐蚀问题时,可用经脱氯的饮用水和经预处理的给水。GE膜产水量在恢复到正常操作压力和流量前,必须注意开始要在低流量和压力下冲洗大量的清洗液。此外,在清洗过程中清洗液也会进入产水侧,因此,产水必须排放10 分钟以上或直至系统正常启动运行后产水清澈为止。

  当GE膜清洗元件的时候需要获得认可的安全操作规程,运行过程中水处理系统水质下降的时候,不一定需要清洗膜,在维护系统时需要查明原因,再进行维护。

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