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芯片清洗用水有“讲究” 反渗透膜应用确保水质更“标准”

作者:GE膜     来源:GE膜公司     发布日期:2022-01-27


  信息化、数字化、网络化、智能化是当前科技、产业乃至社会变革的时代潮流。半导体产业是衡量一个国家科技发展水平和综合国力的重要指标。

  芯片一直是大国间贸易战、科技战、经济战的主战场,芯片技术是各方竞争激烈的战场制高点。在此背景下,本文分析讨论了全球芯片技术未来的发展趋势,并对我国芯片技术未来的发展提出了一些建议。芯片清洗是工艺过程中的基本要求,整个芯片生产过程中有近20%是清洁的。作为一种高精度的集成电路,对清洗用水的水质要求很高。超纯水已成为行业清洗用水的“标准”水质。

  根据超纯水行业的现状,设计了一种可以减少水垢产生的反渗透膜,该反渗透膜可以截流0.0001微米以上的物质,是一种精细的膜分离产品,可以有效截留所有溶解盐分及分子量大于100的有机物,允许水分子通过,具有脱盐率高、抗污染性高的特点。

  反渗透膜在电子行业应用优势:

  1、反渗透的脱盐率高,单级反渗透系统脱盐率一般可稳定在90%以上,双级反渗透系统脱盐率一般可稳定在98%以上。

  2、反渗透能有效去除细菌等微生物、有机物,以及金属元素等无机物,出水水质优于其它方法。

  3、减缓了源水水质波动而造成的产水水质变化,从而有利于生产中水质的稳定,这对纯水产品质量的稳定有积极的作用。

  在芯片生产过程中,超纯水主要用于清洗用水和制备各种溶液。不同的芯片对水质有不同的要求。反渗透膜具有处理能力强、不易污染、使用寿命长等优点。

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