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反渗透膜技术应用 帮助集成电路产业升级

作者:GE膜     来源:GE膜公司     发布日期:2022-01-25


  据澎湃新闻报道,12月17日晚,财政部、税务总局、发展改革委、工信部四部门联合下发了《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》。该政策明确了相关企业享受企业所得税减免的具体条件,并于2021年1月1日起实施。

  早在4个月前,国务院就从财税、投融资、研究开发、进出口、人才、知识产权、市场应用、国际合作等八个方面出台了《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》,支持集成电路产业和软件产业的发展。

  一般来说,企业拥有的技术含量越高,所得税减免越强,减免范围也比以前更广。例如,集成电路线宽度小于28纳米(含),经营期超过15年的生产企业或项目可免征10年的企业所得税。这也是针对芯片制造首次推出“十年全免”政策。

  根据海关公开数据,2019年中国芯片进口额为3040亿美元,超过原油、铁矿砂和粮食总额为3016亿美元。美国限制芯片出口的行动,在一定程度上激起了自主研发芯片的决心和力量。四个部门联合发布了支持集成电路发展的政策,将加快我国集成电路产业的发展。

  但是集美们,你们知道吗?一个硅片需要在一两个月内的时间,通过400-500个工序才能生产成为一个完整的芯片,其中清洗工程约占30%。因此,芯片清洗对芯片生产具有重要意义。芯片清洗用水通常通过超纯水设备进行生产。

  反渗透膜的过滤工艺就是反渗透技术。反渗透是在浓溶液侧施加大于溶液渗透压的压力,迫使水分子逆向(与自然渗透方向相反)通过半透膜进入稀溶液的过程。在反渗透过程中,浓溶液侧的水分子通过半透膜流向稀溶液,而大多数溶质(溶解性固体)不能透过膜被截留。因此,浓溶液进一步浓缩,稀溶液被稀释纯化。

  反渗透膜可以帮助企业节约投资、降低运营成本、减少单位消费。帮助企业以低成本升级产业。

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